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Wissenschaft

Hi-TECH Beauty Labs erhält US-Patent für Hautpflegetechnologie

Hi-TECH Beauty Labs hat das US-Patent Nr. 12,642,834 B2 für seine B3 Technology® erhalten, eine 100% natürliche botanische Innovation für Problemhaut. Das Unternehmen sucht eine Startfinanzierung von 5 Millionen US-Dollar.

14. Oktober 2026
Hi-TECH Beauty Labs erhält US-Patent für Hautpflegetechnologie

Hi-TECH Beauty Labs, Corp. (HTBL) hat die Erteilung des US-Patents Nr. 12,642,834 B2 für seine B3 Technology® bekannt gegeben. Diese zu 100 % natürliche botanische Innovation wurde entwickelt, um Problemhaut ohne Inhaltsstoffe wie Benzoylperoxid, Salicylsäure, Adapalene oder Retinol zu behandeln.

Die Technologieplattform kombiniert Hochtechnologie-Prinzipien aus dem Silicon Valley mit Hautzellwissenschaft und Botanik. Gründer Matthew J. Schirle, ein ehemaliger Halbleiterunternehmer, wendet Ingenieurmethoden auf Hautpflegeprobleme an, wobei Chief Science Officer Dr. D. William Provance als Erfinder fungiert.

Die B3 Technology® nutzt Inhaltsstoffe wie Schwarze Weidenrinde, Katzenkralle und Drachenblut im Rahmen des proprietären SkinViNO™-Prozesses von HTBL. Das Unternehmen zielt darauf ab, eine Alternative zu aggressiven, säurebasierten Formulierungen anzubieten und prüft potenzielle Lizenzierungsmöglichkeiten mit etablierten Kosmetikunternehmen.

HTBL wird seine Kommerzialisierungsstrategie und seine Seed-Kapitalmöglichkeit auf der Global Capital Network Investor Conference am 15. Oktober 2026 vorstellen. Das Unternehmen sucht eine Startfinanzierung von 5 Millionen US-Dollar, um seinen E-Commerce, Vertrieb und die Kommerzialisierung seiner Technologie zu beschleunigen.

Originalquelle: prnewswire.com