Huayang Precision und Zeiss stellen Halbleitermessgerät vor
Der taiwanesische Halbleiterhersteller Huayang Precision hat in Zusammenarbeit mit Zeiss das Messgerät COSMA-M auf den Markt gebracht, das Nanometer-Präzision für die Halbleiterindustrie bietet.
Der taiwanesische Hersteller von Halbleiteranlagen, Huayang Precision, hat am 5. Oktober die Markteinführung seines Messgeräts COSMA-M bekannt gegeben, das in Zusammenarbeit mit dem deutschen Unternehmen Zeiss entwickelt wurde. Die neue Ausrüstung zielt auf anspruchsvolle Messanforderungen im Halbleitersektor ab, insbesondere für die Herstellung von Fotomasken, fortschrittliche Packaging-Prozesse und die Wafer-Fertigung.
Das COSMA-M-System ist darauf ausgelegt, Messgenauigkeit im Nanometerbereich zu liefern und eine Stabilität von 3σ unter 3 Nanometern zu erreichen. Diese Genauigkeit ist entscheidend für die Einhaltung der strengen Anforderungen modernster Halbleiterfertigungsprozesse. Das System kann mit ergänzenden Modulen ausgestattet werden, um vollständig automatisierte Messabläufe zu ermöglichen.
Die Anwendungsbereiche des COSMA-M umfassen die Herstellung von Deep Ultraviolet (DUV) Fotomasken, fortschrittliche Packaging-Technologien, Through-Glass Vias (TGV) und Co-Packaged Optics (CPO). Huayang Precision hat bereits mit der Validierung von Mustern durch potenzielle Kunden begonnen.
Die Einführung des COSMA-M adressiert den steigenden Bedarf der Halbleiterindustrie an erhöhter Präzision und Automatisierung entlang der gesamten Produktionskette. Die Zusammenarbeit mit Zeiss, einem anerkannten Führer im Bereich Optik und Messtechnik, unterstreicht das Engagement von Huayang Precision für die Bereitstellung hochentwickelter Lösungen.