Micron erweitert Halbleiterfabrik in Hiroshima, Japan
Micron Technology investiert 1,5 Billionen Yen für die Erweiterung seiner Fabrik in Hiroshima, Japan, zur Steigerung der Produktion fortschrittlicher Speicherchips, einschließlich KI-fähiger HBM.
Der US-amerikanische Halbleiterhersteller Micron Technology erweitert seine Produktionskapazitäten in Hiroshima, Japan, mit einer Gesamtinvestition von 1,5 Billionen Yen (rund 9,7 Milliarden Euro). Die Erweiterung konzentriert sich auf die Herstellung fortschrittlicher Speicherchips wie High Bandwidth Memory (HBM), die für die Entwicklung von künstlicher Intelligenz unerlässlich sind.
Die neue Produktionsstätte soll im Jahr 2028 in Betrieb genommen werden. Micron zielt darauf ab, die wachsende Nachfrage im KI-Markt zu bedienen und Technologiegiganten wie Nvidia mit Hochleistungsspeicher für deren Rechenzentren zu versorgen.
Das japanische Ministerium für Wirtschaft, Handel und Industrie (METI) unterstützt das Projekt mit bis zu 500 Milliarden Yen (rund 3,2 Milliarden Euro), um die Halbleiterindustrie des Landes zu stärken. Micron-CEO Sanjay Mehrotra betonte die Bedeutung des Werks für die Fertigung von KI-Chips.
Das Werk in Hiroshima hat bereits erste HBM-Speicher-Wafer produziert. Die Erweiterung festigt Microns Position als Lieferant fortschrittlicher Speicherlösungen in der global wettbewerbsintensiven Halbleiterbranche.