Micron erweitert Werk in Hiroshima für KI-Chips

Micron Technology hat heute den symbolischen ersten Spatenstich für eine bedeutende Erweiterung seiner Produktionsstätte in Hiroshima, Japan, gesetzt. Das Projekt umfasst eine Investition von rund 1,5 Billionen Yen (ungefähr 63 Milliarden Euro) und zielt auf den Aufbau einer spezialisierten Fertigungslinie für fortschrittliche Speicherchips der nächsten Generation ab. Die Nachfrage im Bereich der künstlichen Intelligenz (KI) ist der Hauptantrieb für diese Kapazitätserweiterung.

Die neue Produktionslinie wird sich auf die Herstellung von Schlüsselkomponenten wie High Bandwidth Memory (HBM)-Chips konzentrieren, die entscheidend für KI-Prozessoren von Unternehmen wie Nvidia sind. Laut den Planungen von Micron soll die neue Kapazität bis Sommer 2028 in Betrieb gehen und die ersten Auslieferungen tätigen. Micron-CEO Sanjay Mehrotra betonte bei der Zeremonie, dass der erste von Micron produzierte HBM-Wafer in Hiroshima entstanden sei.

Die japanische Regierung unterstützt die Erweiterung maßgeblich mit bis zu 500 Milliarden Yen (rund 21 Milliarden Euro) an Fördermitteln. Der japanische Minister für Wirtschaft, Handel und Industrie, Ryōta Takeda, nahm an der Zeremonie teil und hob die Bedeutung von Micron als einzigem DRAM-Hersteller in Japan hervor. Er signalisierte zudem die Bereitschaft der Regierung, auch anderen ausländischen Chipherstellern bei der Ansiedlung in Japan zu unterstützen.

Microns Engagement in Hiroshima begann 2013 mit der Übernahme des insolventen japanischen DRAM-Herstellers Elpida Memory. Aktuell stammen rund 80 Prozent der für das Werk benötigten Chip-Materialien von japanischen Zulieferern. Diese Erweiterung ist Teil von Microns globaler Strategie zur Steigerung der Produktionskapazitäten, die auch bedeutende Investitionen in den USA einschließt.