Kiinalainen EUV-valonlähdemalli esillä Kiinan teollisuusmessuilla

Kiinalainen teknologiayritys Landao Suiyan esitteli ensimmäistä kertaa tähän mennessä pisimmälle edenneen kotimaisen EUV-valonlähdejärjestelmän prototyypin Kiinan kansainvälisillä teollisuusmessuilla Shanghaissa. Tätä teknologiaa kutsutaan korkean suorituskyvyn litografiakoneiden keskeiseksi osaksi.

Esillä ollut malli sisältää 90 % kotimaisia osia, ja sen ydinosa on itse kehitetty. Valonlähdejärjestelmän tekninen lähestymistapa on linjassa kansainvälisten johtavien valmistajien kanssa ja sitä voidaan käyttää sirujen valotustestaukseen. EUV-valonlähteet ovat yksi kolmesta keskeisestä komponentista edistyneiden, 7 nanometrin ja sitä pienempien valmistusprosessien siruissa. Tämän teknologian saatavuutta on pitkään rajoittanut ulkomainen teknologinen monopoli ja vientikiellot, mikä on ollut pullonkaula Kiinan korkean suorituskyvyn sirujen omavaraisuudelle.

Landao Suiyanin verkkosivuilla on lueteltu useita EUV-tuotteita, mukaan lukien korkeatehoinen FlintMicro-LPP Alpha01 ja matalatehoinen FlintNano LPP-OXXO -järjestelmä. FlintMicro-LPP-sarjan on todettu olevan teoriatasolla todistettu, kun taas FlintNano-LPP-sarja on tuotteistusvaiheessa. FlintNano LPP-OXXO -järjestelmän tekniset tiedot sisältävät 1000 W käyttölasertehon, 1–20 kHz taajuuden ja yli 2 % hyötysuhteen.

Vaikka mallin ensiesittely on merkittävä askel kotimaisen EUV-teknologian siirtymisessä laboratoriosta teollistamiseen, yrityksen edustajat arvioivat, että massatuotantoon menee vielä 3–5 vuotta. Keskeisiä haasteita ovat edelleen lähtötehon nostaminen ja pitkäaikaisen toiminnan vakauden parantaminen. Kaupalliset EUV-litografiakoneet vaativat satojen wattien lähtötehoa ja korkeaa luotettavuutta pitkäaikaisessa käytössä. Esitelty prototyyppi todistaa teknologian toteutettavuuden, mutta eroa teollisuuskäytön vaatimaan kypsyyteen on vielä merkittävä.