Fujifilm laajentaa puolijohdemateriaalien tuotantoa Oitassa
Fujifilm on saanut valmiiksi uuden puolijohdemateriaalitehtaansa Japanin Oitassa. Laajennus moninkertaistaa yrityksen CMP-jälkikäsittelyn puhdistusaineiden tuotantokapasiteetin.
Fujifilm ilmoitti 20. elokuuta, että sen uusi puolijohdemateriaalitehdas Oitan prefektuurissa Japanissa on valmistunut. Laitos valmistaa kemiallis-mekaanisen kiillotuksen (CMP) jälkikäsittelyssä käytettäviä puhdistusaineita.
Uuden tehtaan myötä Oitan tehtaan vastaava tuotantokapasiteetti kasvaa kolminkertaiseksi. Nämä puhdistusaineet poistavat tehokkaasti hiukkasia, epäpuhtauksia ja orgaanisia jäämiä suojaten samalla metallipintoja.
Fujifilm odottaa näiden tuotteiden myynnin kaksinkertaistuvan vuoteen 2030 mennessä verrattuna vuoteen 2024. Puolijohdemateriaalit ovat kasvaneet yhdeksi yhtiön keskeisistä liiketoiminta-alueista, saavuttaen yli 20 prosentin vuotuisen kasvuvauhdin vuosina 2021–2025.
Yhtiö investoi jatkuvasti CMP-liuosten, jälkipuhdistusaineiden ja valoherkkien eristyskalvojen, kuten polyimidien, tuotantokapasiteetin laajentamiseen. Tämä vastaa tekoälyaikakauden kasvavaan kysyntään puolijohdeteollisuudessa.