Intel CEO: Kiinan ja Yhdysvaltojen välillä pieni ero sirunvalmistuksessa
Intel CEO Pat Gelsinger arvioi Kiinan ja Yhdysvaltojen välisen eron sirunvalmistusteknologiassa olevan pieni tällä hetkellä, korostaen kilpailun merkitystä asiakastarpeiden täyttämisessä.
Intel-toimitusjohtaja Pat Gelsinger on arvioinut, että Kiinan ja Yhdysvaltojen välinen ero sirunvalmistusteknologiassa on tällä hetkellä pieni. Gelsingerin mukaan molemmilla mailla on omat vahvuutensa ja heikkoutensa siruteollisuudessa.
Haastattelussa Nikkei Asian kanssa Gelsinger totesi, että Inteliä ja muita yhdysvaltalaisia yhtiöitä arvostellaan usein Kiinan nopeasta kehityksestä. Hän kuitenkin korosti, että asiakkaiden tarpeiden täyttäminen on alan tärkein mittari menestykselle. Voittaja on se, joka pystyy tuottamaan parhaiten yritysten ja kuluttajien tarpeisiin vastaavia tuotteita.
Gelsingerin kommentit eroavat joidenkin muiden alan toimijoiden arvioista. Esimerkiksi Elon Musk on aiemmin arvellut Kiinan voivan kuroa etumatkaa umpeen muutamassa vuodessa, kun taas Zeissin puolijohdeliiketoiminnan johtaja on arvioinut Kiinan olevan 15 vuotta jäljessä uusimmasta EUV-teknologiasta.
Kun Gelsingeriltä kysyttiin mahdollisuudesta, että Kiina saavuttaa Yhdysvaltain edistyneen siruteknologian seuraavan 5–10 vuoden aikana, hän vastasi: "Tällä hetkellä en usko, että ero on niin suuri."