Meta käyttää Samsungin 2 nm -prosessia tulevissa AI-siruissaan
Meta aikoo hyödyntää Samsungin kehittynyttä 2 nanometrin valmistusprosessia tulevissa tekoälypiireissään, raportoi SEDaily. Siirtyminen pois TSMC:stä merkitsee merkittävää muutosta yhtiön strategiaa.
Meta, teknologiayhtiö Meta Platforms, on ilmoittanut siirtyvänsä käyttämään Samsungin 2 nanometrin valmistusprosessia seuraavan sukupolven MTIA-sarjan tekoälypiireissään. Tiedon mukaan Meta on tehnyt merkittävän sopimuksen Samsungin kanssa, jonka arvoksi arvioidaan yli 10 biljoonaa Korean wonia (noin 7 miljardia euroa). Tämä siirto merkitsee muutosta Meta Platforms -yhtiön tuotantostrategiassa, sillä aiemmat MTIA-sirut valmistettiin TSMC:llä.
Meta on viime aikoina panostanut voimakkaasti omien tekoäly-ASIC-piiriensä kehittämiseen ja ilmoitti maaliskuussa kunnianhimoisesta suunnitelmasta julkaista neljä sirusukupolvia kahden vuoden aikana. MTIA 300 -siru on jo tuotannossa ja MTIA 400 -siru on käyttöönotossa datakeskuksissa. Yritys on kertonut tavoitteekseen nopeuttaa kehityssyklejä merkittävästi, tavoitteena vain kuuden kuukauden päivitysväli uusille siruille.
Samsungin 2 nanometrin prosessin käyttöönotto mahdollistaa Metalle entistä tehokkaampien ja suorituskykyisempien sirujen valmistamisen. MTIA 450 - ja MTIA 500 -sirujen odotetaan tulevan laajamittaiseen tuotantoon vuosina 2027 ja 2028, ja ne todennäköisesti hyödyntävät tätä uutta valmistusteknologiaa. Yhtiö tekee tiivistä yhteistyötä Samsung Electronicsin System LSI -liiketoimintayksikön kanssa sirujen arkkitehtuurin suunnittelusta lähtien.
Tämä sopimus korostaa Samsungin asemaa johtavana puolijohdevalmistajana tekoälypiirimarkkinoilla. Kilpailu valetun sirun valmistuksesta on kovaa, ja Metan kaltainen suuri asiakas voi merkittävästi vahvistaa Samsungin asemaa tällä nopeasti kasvavalla alalla. Analyytikot seuraavat tarkasti, miten tämä yhteistyö vaikuttaa Metan tekoälyominaisuuksiin ja markkina-asemaan tulevaisuudessa.