Prototype de source de lumière EUV chinoise présenté au salon industriel de Chine
L'entreprise chinoise Landao Suiyan a dévoilé un prototype de système de source de lumière EUV au salon international de l'industrie de Chine. Le modèle contient 90 % de composants nationaux, mais la production de masse nécessitera encore 3 à 5 ans.
L'entreprise technologique chinoise Landao Suiyan a présenté pour la première fois un prototype de son système de source de lumière ultraviolette extrême (EUV) au Salon international de l'industrie de Chine à Shanghai. Ce système est considéré comme le prototype de source de lumière EUV domestique le plus avancé exposé publiquement et est crucial pour les machines de lithographie haut de gamme.
Le système de source lumineuse exposé présente un taux de composants nationaux de 90 %, la plupart des pièces maîtresses étant développées indépendamment. L'approche technique est conforme à celle des principaux fabricants internationaux et convient aux tests d'exposition de puces. Les sources de lumière EUV sont l'un des trois composants essentiels à la fabrication de puces avancées utilisant des procédés de 7 nm et moins. L'accès à cette technologie a longtemps été limité par les monopoles étrangers et les interdictions d'exportation, ce qui constitue un défi majeur pour l'autosuffisance de la Chine dans la production de puces haut de gamme.
Le site web de Landao Suiyan répertorie plusieurs produits EUV, notamment le système haute puissance FlintMicro-LPP Alpha01 et le système basse puissance FlintNano LPP-OXXO. La série FlintMicro-LPP a fait l'objet d'une validation théorique, tandis que la série FlintNano-LPP est en phase de production. Les spécifications du FlintNano LPP-OXXO incluent une puissance laser d'entraînement de 1000 W, une fréquence de 1 à 20 kHz et une efficacité supérieure à 2 %.
Bien que cette première présentation marque une étape cruciale du laboratoire à l'application industrielle pour les sources de lumière EUV domestiques, les représentants de l'entreprise estiment que la production de masse prendra encore 3 à 5 ans. Les principaux défis résident dans l'augmentation de la puissance de sortie et l'assurance de la stabilité opérationnelle à long terme. Les systèmes de lithographie EUV commerciaux nécessitent plusieurs centaines de watts de puissance de sortie et une fiabilité élevée lors d'un fonctionnement prolongé. Le prototype valide la faisabilité technique, mais il existe encore un écart important par rapport à la maturité du produit requise pour une utilisation industrielle.