Fujifilm achève sa nouvelle usine de matériaux semi-conducteurs à Oita

Fujifilm a annoncé le 20 août l'achèvement de sa nouvelle usine de matériaux semi-conducteurs située dans la préfecture d'Oita, au Japon. L'installation de production fabriquera des agents de nettoyage destinés au traitement post-polissage mécano-chimique (CMP).

La nouvelle usine entraînera un triplement de la capacité de production pour les produits connexes de l'usine d'Oita. Ces agents de nettoyage sont conçus pour éliminer les particules, les impuretés métalliques et les résidus organiques tout en protégeant les surfaces métalliques.

Fujifilm prévoit que le chiffre d'affaires de ces produits doublera au moins d'ici 2030 par rapport aux niveaux de 2024. Les matériaux semi-conducteurs sont devenus une activité essentielle pour la croissance de Fujifilm, atteignant un taux de croissance annuel composé (TCAC) supérieur à 20 % au cours des exercices 2021-2025.

L'entreprise étend activement sa capacité de production de slurries CMP, d'agents de post-nettoyage et de films isolants photosensibles tels que les polyimides. Cette expansion vise à répondre à la demande croissante des usines de fabrication de plaquettes à l'ère de l'IA.