La technologie d'empreinte améliore les biocapteurs à base de transistors

Des chercheurs sud-coréens ont développé une méthode améliorée pour fabriquer des biocapteurs à base de transistors en utilisant des nanofils de silicium (SiNWs). L'objectif est d'améliorer la sensibilité et la stabilité de ces dispositifs dans la détection de substances biologiques et chimiques.

L'étude s'est concentrée sur les transistors à effet de champ à double grille (DG FET), où la liaison des molécules modifie la charge électrique de surface, permettant la détection. La nouvelle technique de fabrication, la lithographie par nanoimpression, permet un contrôle précis de la position et de la taille des nanofils de silicium, ce qui a été un défi avec les méthodes de fabrication antérieures.

Les méthodes traditionnelles telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) rencontrent des difficultés de contrôle à l'échelle nanométrique. D'autre part, les méthodes par faisceau d'électrons ou d'ions pour structurer les nanostructures sont coûteuses et ont un faible débit pour la production à grande échelle. La lithographie par nanoimpression offre une solution en créant des structures à l'échelle nanométrique par pression d'un moule sur la surface d'une couche de silicium.

Selon les chercheurs, les biocapteurs DG FET à base de SiNWs démontrent une plus grande stabilité et sensibilité que leurs homologues conventionnels. Ils s'attendent à ce que cette technologie conduise au développement de nouveaux biocapteurs sans marqueur, applicables à une variété d'événements biologiques, tels que les réactions enzyme-substrat et les liaisons antigène-anticorps.