Une entreprise russe développe un prototype de système de lithographie par faisceau d'électrons de 150 nm

Le Centre de nanotechnologie Zelenograd en Russie a annoncé en juin le développement réussi d'un prototype de système de lithographie par faisceau d'électrons de 150 nm, nommé apparemment "Progress ELL 150". Le centre mène actuellement une phase de test préliminaire de quatre mois sur deux systèmes prototypes avant d'évaluer la précision de la structuration et d'autres paramètres techniques.

La lithographie par faisceau d'électrons est une technologie de structuration sans masque offrant une flexibilité pour la fabrication à petite échelle. Bien qu'avantageuse pour sa rapidité et sa facilité d'utilisation dans des tirages limités, elle n'est pas adaptée à la production de masse. Dans la chaîne de fabrication traditionnelle des semi-conducteurs, elle est typiquement utilisée dans la production de masques.

Cependant, pour le marché de niche des puces requises par les industries aérospatiale et de défense russes, l'utilisation directe de la lithographie par faisceau d'électrons pourrait détenir un potentiel commercial. Cette approche pourrait permettre la production locale de composants critiques sans nécessiter une infrastructure de fabrication traditionnelle à grande échelle.