Kinas första 2D-halvledarprocesslinje i drift
Kinesiska IT Home rapporterar att landets första 8-tums testlinje för 2D-halvledare har driftsatts. Målet är att nå motsvarande 5nm-tillverkning utan EUV-litografi till 2029.
Det kinesiska teknikföretaget IT Home har meddelat att landets första 8-tums testlinje för 2D-halvledare har tagits i drift. Denna referenslinje är utformad för att överbrygga betydande utmaningar inom den traditionella halvledarindustrin, med målet att utveckla teknik utan beroende av EUV-litografi.
Linjen, som byggts av Yuanjijie Technology, är nu fullt fungerande och kapabel att utföra prototyptester och ingenjörsmässig framtagning av chip. Den täcker hela processen från materialberedning till integrering av chip. Enligt företaget är detta världens första produktions-/testlinje för 2D-halvledare.
Företagets VD Bao Wenzhong uppger att 2D-material erbjuder en unik fördel, där deras atomära tunnhet möjliggör transistorer utan komplexa FinFET- eller ring-gate-strukturer. Detta tillvägagångssätt kan minska tillverkningskostnaderna och förenkla produktionsprocessen.
Målet är att Kina till 2029 ska kunna tillverka halvledare motsvarande 5nm-processen utan EUV-litografi, med hjälp av inhemska lösningar. Företaget har också lanserat en ny 500 nanometers PDK (Process Design Kit) och påbörjat gjuteritjänster. Detta PDK stöder design av 2D-halvledare och rapporteras ha en utbyte på över 99,99 %, vilket närmar sig nivån för kiselbaserade processer.