Kinesisk EUV-ljuskällsprototyp visas på China Industry Expo
Kinesiska Landao Suiyan presenterade en prototyp av ett EUV-ljuskällsystem på China International Industry Fair. Systemet har 90 % inhemska komponenter, men massproduktion väntas dröja 3–5 år.
Det kinesiska teknikföretaget Landao Suiyan har för första gången visat upp en prototyp av ett EUV-ljuskällsystem, vilket beskrivs som det mest avancerade inhemska systemet hittills. EUV-ljuskällan kallas ofta för "hjärtat" i avancerade litografimaskiner som används för chipstillverkning.
Prototypen som visades upp har en inhemsk andel på 90 %, där de flesta kärnkomponenter är självutvecklade. Den tekniska linjen följer internationella ledande tillverkare och kan användas för chipsexponeringstester. EUV-ljuskällor är en av de tre centrala komponenterna för tillverkning av chip med avancerade processer på 7 nanometer och mindre. Tillgången till denna teknik har länge begränsats av utländsk teknologimonopol och exportförbud, vilket varit en flaskhals för Kinas självständighet inom avancerad chipstillverkning.
Landao Suiyan listar flera EUV-produkter på sin webbplats, inklusive den högpresterande FlintMicro-LPP Alpha01 och det lågeffektiva FlintNano LPP-OXXO-systemet. FlintMicro-LPP-serien har genomgått teoretisk bekräftelse, medan FlintNano-LPP-serien befinner sig i produktiseringsfasen. FlintNano LPP-OXXO har en drivande lasereffekt på 1000W, en frekvens på 1–20 kHz och en verkningsgrad på över 2 %.
Trots att demonstrationen markerar ett viktigt steg från laboratorium till industriell tillämpning, uppskattar företagets personal att det fortfarande krävs 3 till 5 år för massproduktion. De huvudsakliga utmaningarna ligger i att öka uteffekten och förbättra stabiliteten vid långvarig drift. Kommersiella EUV-litografisystem kräver hundratals watt i uteffekt och hög tillförlitlighet. Den visade prototypen bekräftar teknikens genomförbarhet, men det finns fortfarande ett betydande gap till den mognadsgrad som krävs för industriell användning.