Marknaden för EUV-fotoresist förväntas nå 0,65 miljarder USD till 2030

Den globala marknaden för EUV-fotoresist (ljuskänsliga material för Extreme Ultraviolet-litografi) förväntas nå 0,65 miljarder USD till år 2030, enligt en rapport från QY Research Inc. EUV-litografi är en avancerad halvledartillverkningsteknik som använder ultraviolettljus med en våglängd på cirka 13,5 nanometer för att skapa extremt små strukturer på kiselskivor.

Tillväxten drivs primärt av den ökande efterfrågan på avancerade halvledare. När halvledarindustrin strävar efter allt mindre nodstorlekar, som 5 nanometer (nm) och mindre, blir EUV-litografi allt mer nödvändigt för att uppnå den precision som krävs. Detta ökar i sin tur behovet av specialiserade EUV-fotoresister.

Kontinuerliga teknologiska framsteg inom EUV-litografin, inklusive förbättringar av ljuskällor och optik, bidrar till ökad effektivitet och därmed en bredare adoption av tekniken. Dessutom gör stora investeringar från halvledartillverkare och gjuterier i EUV-teknologi att marknaden för fotoresist fortsätter att expandera.

Fotoresister är avgörande komponenter i tillverkningen av avancerade halvledare som möjliggör nya generationer av elektroniska enheter. Dessa enheter är nödvändiga för applikationer inom områden som artificiell intelligens, 5G-kommunikation och självkörande fordon.