Fujifilm utökar produktionen av halvledarmaterial i Oita
Fujifilm har färdigställt sin nya fabrik för halvledarmaterial i Oita, Japan. Utbyggnaden tredubblar företagets produktionskapacitet för rengöringsmedel för CMP-efterbehandling.
Fujifilm meddelade den 20 augusti att dess nya fabrik för halvledarmaterial i Oita-prefekturen, Japan, nu är färdigställd. Anläggningen kommer att producera rengöringsmedel för kemisk-mekanisk polering (CMP) efterbehandling.
Med den nya anläggningen kommer den relevanta produktionskapaciteten vid fabriken i Oita att tredubblas. Dessa rengöringsmedel är utformade för att rengöra partiklar, förorenande metaller och organiska rester, samtidigt som de skyddar metallytor.
Fujifilm förväntar sig att försäljningsintäkterna för dessa produkter minst fördubblas till år 2030 jämfört med 2024. Halvledarmaterial har blivit en av de drivande kärnverksamheterna för Fujifilms tillväxt, med en sammansatt årlig tillväxttakt (CAGR) på över 20 % under i de finansiella åren 2021–2025.
Företaget expanderar aktivt kapaciteten för CMP-slurry, rengöringsmedel för efterbehandling och ljuskänsliga isoleringsfilmer som polyimid, för att möta den ökande efterfrågan från kiselverkstäder under AI-eran.