GF lanserar SYGEF Ultra för halvledartillverkning
GF introducerar SYGEF Ultra, ett högrent PEEK-rörsystem för ultrarent vatten i nästa generations halvledartillverkning. Systemet kan minska sköljtiden med upp till 80 % jämfört med befintliga PVDF-system.
GF har lanserat SYGEF Ultra, ett nytt rörsystem avsett för ultrarent vatten inom nästa generations halvledartillverkning. Systemet är tillverkat av högrent PEEK-material.
Tester indikerar att SYGEF Ultra kan reducera sköljtiden med cirka 80 % jämfört med etablerade högrena PVDF-system. Denna förbättring stödjer snabbare idrifttagning av produktionsanläggningar.
Systemet är konstruerat för att upprätthålla hög renhet, långsiktig tillförlitlighet och klara krävande driftsförhållanden inom halvledarindustrin.
Produkttillskottet utökar GF:s portfölj för mikroelektronikindustrin och stärker företagets position på en växande marknad, driven av bland annat artificiell intelligens och högpresterande databehandling.