Rittal lanserar kylningslösning på över 1 MW för AI

Tillverkaren av IT-infrastrukturlösningar, Rittal, har tagit fram en ny modulär kylningsdistribueringsenhet (CDU) med en kylkapacitet på över en megawatt. Enheten använder direkt vätskestyrd kylning baserad på vatten och är avsedd att stödja de nya IT-infrastrukturteknologier som krävs för AI-applikationer.

Rittal presenterar kylningsenheten vid 2024 OCP Global Summit. Företaget uppger att lösningen har utvecklats i nära samarbete med hyperskalare och server-OEM-tillverkare. Den nya tekniken bygger på principerna för Open Rack V3 och OCP samt modularisering, vilket gör att kylningsenhetens moduler kan hanteras på samma sätt som servrar.

Lars Platzhoff, chef för Rittals affärsenhet Cooling Solutions, betonade vikten av att lösningen är hanterbar i praktiken. Enligt honom är det inte tillräckligt att bara erbjuda kylkapacitet och integrera lösningen; den måste också förbli hanterbar för datacentrets personal som en del av den vanliga driften.

Rittal förutspår att vätska-till-vätska-kylningslösningar kommer att bli standard, särskilt bland hyperskalare som driver stora datacenter. Företaget erbjuder även vätska-till-luft-kylningsalternativ för datacenter utan vattenanslutning, även om dessa inte uppnår samma kyleffekt och effektivitet som helt vätskestyrda system. Dessa alternativ möjliggör implementering av direkt vätskestyrd kylning i datacenter för att förbättra förutsättningarna för AI.