Ryskt företag utvecklade prototyp för 150 nm elektronstrålskriftssystem
Ryska Zelenograds nanoteknologicenter har utvecklat en prototyp för ett 150 nanometers elektronstrålskriftssystem, som färdigställdes i juni. Tester av utrustningen pågår.
Det ryska Zelenograds nanoteknologicenter meddelade i juni att de framgångsrikt hade utvecklat en prototyp för ett 150 nanometers elektronstrålskriftssystem, som verkar kunna översättas till "Progress ELL 150". Utrustningen genomgår för närvarande en fyra månader lång preliminär testfas, varefter mönsterprecision och andra tekniska parametrar kommer att testas.
Elektronstrålskrift är en masklös mönstringsteknik som erbjuder flexibilitet för småskalig tillverkning. Dess fördelar inkluderar hastighet och enkelhet jämfört med traditionella litografiska metoder, men den är olämplig för massproduktion. Inom den traditionella halvledarindustrin används tekniken främst för tillverkning av masker.
Systemet, som utvecklas för Rysslands behov inom rymd- och försvarsindustrin, kan dock vara kommersiellt gångbart eftersom marknadsstorleken för dessa chip är begränsad. Elektronmikroskopisk mönstring möjliggör lokal tillverkning av kritiska komponenter utan stora investeringar i traditionella produktionslinjer.